キヤノンが開発中の望遠レンズ2本を米国の展示会に参考出展

開発中の一眼レフカメラEOSシリーズ用の望遠レンズ“EF200mm F2L IS USM”と“EF800mm F5.6L IS USM”の2本を10月18日から20日まで、ニューヨークで開催される展示会「PhotoPlus」に参考出展

“EF200mm F2L IS USM”は、ポートレートや室内スポーツ撮影などにおいて、より明るいレンズを望むユーザー向けに、開放絞り値F2の大口径レンズとして開発

“EF800mm F5.6L IS USM”は、現行製品の「EF600mm F4L IS USM」を越える超望遠域に対応するレンズとして開発しているもので、 スポーツ、報道などの分野から寄せられた、より長い焦点距離の高性能レンズを望む声に応えて開発。